背景（反射）温度补偿
发射率较低的测量目标可以反射来自附近的背景能量，这部分额外的反射能量会被添加到测量目标自身发射的能量中，从而使热像仪读数变得不准确。
部分情况下，位于测量目标附近的物体（设备、或者其他热源）的温度会比测量目标的温度高出很多。因此，在实际使用中，需要根据现场情况修正“背景温度补偿”等参数来消除这部分干扰。
有时背景温度补偿也被称为“反射温度补偿”。
从斯蒂芬- 玻尔兹曼扩展公式可以看出：
对于发射率较高的目标（通常为非金属物体），背景温度补偿设置不准确的影响会比较小，甚至小于0.1℃。
对于发射率较低的目标（通常为光亮金属表面，或背景温度较高的情况，必须准确设置背景温度补偿，否则会引起较大误差。
斯蒂芬- 玻尔兹曼扩展公式：
Q =σ× ε × T4目标 + (σ× (1- ε) × T4 背景 )
反射 发射
Q ：热像仪接收的总能量
σ：斯蒂芬- 玻尔兹曼常量
ε：发射率
T ：绝对温标
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